陶瓷噴涂的工藝與過程

陶瓷噴涂物質(zhì)的第四態(tài)，天然地泛起在太陽、恒星、極光和閃電中，與熱噴涂相關(guān)的極高溫度使得熔化或汽化宇宙中任何已知物質(zhì)成為可能。因此，在1960引入陶瓷噴涂工藝是一個革命性的時刻。

熱噴涂的歷史。陶瓷噴涂的涂層質(zhì)量遠遠超過先前可用的，陶瓷噴涂的燦爛：陶瓷噴涂的前沿表征技術(shù)，并且可以利用熱噴涂涂層成功地使表面功能多樣化，自開始以來陶瓷噴涂一直處于熱噴涂技術(shù)的前沿。

迄今為止，陶瓷噴涂是最通用的熱噴涂工藝，陶瓷噴涂工藝是高機能涂層，具有耐久性和可靠性。

陶瓷噴涂工藝可以應(yīng)用最廣泛的涂層材料，迄今為止，任何熱噴涂過程，執(zhí)行其他過程不能在金屬基板上無窮涂覆應(yīng)用。

科普知識：陶瓷噴涂的工藝與過程

陶瓷噴涂工藝的過程

陶瓷噴涂過程的靈活性來自于它能夠開發(fā)足夠的能量來熔化大部門粉末狀的涂層原料。熱噴涂噴槍利器具有一個或多個陰極（電極）和陽極（噴嘴）的腔室。跟著工藝氣體流過腔室，直流電被施加到陰極，電弧旭日極旋轉(zhuǎn)。強盛的電弧使它們的電子氣體分子形成等離子體羽流。當不不亂的陶瓷噴涂的涂層重新回到氣態(tài)時，開釋出巨大的熱能。原料材料被注入熱氣體羽流中，在熔融氣體羽流被熔化并向目標襯底推進以形成涂層。

通常使用的陶瓷噴涂工藝氣體是氬氣、氫氣、硝基和氦氣，分別或兩種或三種氣體的混合物。與施加在電極上的電流結(jié)合使用的氣體控制產(chǎn)生的能量的量。因為氣體活動和所施加的電流可以被精確地調(diào)節(jié)，因此可以獲得可重復和可猜測的涂層結(jié)果。此外，噴嘴的外形和孔尺寸、材料被注入到羽流中的點和角度以及槍到目標表面的間隔也受到控制。這提供了高度的靈活性，以開發(fā)可重復的參數(shù)，用于在非常大的范圍內(nèi)具有熔化溫度的材料。

噴涂槍距靶部件的間隔、噴槍和靶部件的相對運動，以及部門冷卻（通常是靶靶上的空氣射流）保持襯底在38°C到260°C的控制溫度。（100°F至500°F）。

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